• 材质：钠钙玻璃
• 可选刻线密度：75-2400L/mm
• 衍射效率：可达60%~80%

       平面刻划光栅（Plane Ruling Grating）可以将入射的多光谱光分成不同方向出射的衍射光，其被广泛地应用于各种光谱仪器以及包括计量、无线电天文学、信息处理、集成光学和光通信等在内的诸多领域中。它的优点是衍射效率高，尤其当位于闪耀角的波长上时，衍射效率甚至能达到80%-90%，缺点是存在鬼线和高杂散光。

       平面刻划光栅是由高精度的母光栅经过复制而成的。光栅复制过程如下：在一个镀了铝膜的光学基板上刻上一系列间距线宽相等的密集平行直线（通常称之为“主尺”）接着采用高精密的干涉测量驱动器控制一个钻石刀按照设定的间距和角度在基板上进行刻划，形成锯齿状的槽纹（通常称为闪耀角），从而得到母光栅。复制时首先在母版上真空沉积一层很薄的膜层，然后在分离层上镀一层铝膜，再在顶层镀上一层环氧层，复制刻槽表面，最后将复制的光栅从母光栅上分离出来，就得到了平面刻划光栅。

       Dimension-labs为您提供多种规格的平面刻划光栅（具体尺寸及参数可由下方详情中筛选查看），以满足您所需的多种应用。